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一种基于硫化钨纳米片的阻变存储器及其制备方法

  • 发布时间: 2024-12-17
预算 双方协商
基本信息
成果方:河北大学
合作方式:技术转让
成果类型:发明专利,
行业领域
新材料及其应用
成果描述

本发明提供了一种基于硫化钨纳米片的阻变存储器及其制备方法,所述忆阻器的结构从下到上依次包括Pt衬底、在所述Pt衬底上形成的第一ZrO2阻变层、在所述第一ZrO2阻变层上形成的WS2纳米片介质层、在所述WS2纳米片介质层上形成的第二ZrO2阻变层以及在所述第二ZrO2阻变层上形成的Ag电极层。本发明提供的阻变存储器通过性能检测证明其具有良好的阻变特性,呈现出较为稳定的阻值变化,高电阻值和低电阻值之间相差较大,不容易造成误读,而且该WS2纳米片阻变存储器在高阻态和低阻态下的抗疲劳特性均比较优异。

应用范围
近年来,集成电路工艺的尺寸已经深入到20纳米以下,传统的非挥发性存储器件已经接近物理极限,开发新一代非挥发性存储器已成为各国科学家研究的热门领域。目前,非挥发性存储器的主要类型有磁存储器,相变存储器和阻变存储器。其中阻变存储器具有功耗低,读写速度快,数据保持能力好,制作简单,易于集成等优点,是极具应用前景的新一代存储器。
阻变存储器的一般结构是典型的三明治结构,有上下电极和设置在上下电极之间能够产生阻变现象的变阻材料。在外加偏压的作用下,会使器件的电阻状态发生高低阻态的转变,从而实现0和1的存储。对于阻变存储器而言,选择不同的阻变层材料对于器件而言会产生较大影响,可以说阻变层材料是阻变存储器的核心。


前景分析
本发明提供的WS2纳米片阻变存储器通过滴涂并用甩胶机甩匀的方法形成WS2纳米片介质层,并用磁控溅射法二次生长ZrO2阻变层,所得阻变存储器通过性能检测证明其具有良好的阻变特性,呈现出较为稳定的阻值变化,高电阻值和低电阻值之间相差较大,不容易造成误读,而且该WS2纳米片阻变存储器在高阻态和低阻态下的抗疲劳特性均比较优异。
本发明提供的制备方法简单易行、操作性好,优化了器件性能,其有别于传统使用氧化物制备的存储器件,结构新颖独特,性能表现良好,使阻变存储器存储性能更为稳定、耐久性强,应用前景更为广阔。


联系方式

  • 联系人:

    闫小兵

  • 联系电话:

    19932581836

  • 通讯地址:

    河北省保定市五四东路180号

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